均匀软X射线多层膜制备方法研究
介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍.
软X射线、多层膜、磁控溅射、均匀性
15
O434.14(光学)
国家自然科学基金69938020;中国科学院知识创新工程项目
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
444-446
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软X射线、多层膜、磁控溅射、均匀性
15
O434.14(光学)
国家自然科学基金69938020;中国科学院知识创新工程项目
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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