X射线激光Nd薄膜靶表面氧化特性研究
利用石英晶体振荡技术测量了不同环境中稀土元素Nd薄膜靶表面氧化速率,用俄歇电子能谱,扫描电镜,X射线衍射,X射线光电子能谱分析了Nd薄膜表面氧化过程,发现保存环境对靶的表面氧化行为有重要影响.空气中水分是引起Nd快速氧化的关键因素.表面氧化层为团聚状的非晶结构,氧化物与金属的体积比较小可能是引起Nd薄膜较易氧化的原因.Nd薄膜靶表面覆盖有一层氢氧化物,其厚度按保存在真空、干燥空气和潮湿空气环境而依次递增.
X射线激光、稀土元素、Nd薄膜靶、氧化
12
TN244(光电子技术、激光技术)
国家高技术研究发展计划863计划
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
265-268