波长1O64nm脉冲激光高阈值反射膜的研制

摘要：

研究HfO2/SiO2高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀金属Hf的源材料形成HfO2薄膜.采用这三种工艺制备了HfO2/SiO2高反射膜,在中心波长1064nm处,反射率R≥99.5%,其中反应蒸镀HfO2/SiO2高反射膜损伤阈值最高,可达60J/cm2(1064nm,5ns).

关键词：HfO2/SiO2反射膜、激光诱导损伤阈值、电子柬蒸发、等离子辅助沉积

所属期刊栏目：11

分类号：TN24(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：413-417