硫化铜薄膜的发展现状及性能研究

摘要：

硫化铜薄膜是一种应用前景十分广阔,具有非常优异的光电性能的光电功能薄膜材料.文章介绍了不同的化学方法制备硫化铜薄膜的优缺点,并着重研究了在化学浴沉积法制备硫化铜薄膜过程中,不同的溶液配比对硫化铜薄膜性能的影响.实验结果表明,将0.03mol/L的硫酸铜溶液与0.02mol/L的柠檬酸三钠溶液络合搅拌,然后在向混合液中加入0.06mol/L的硫脲,在温度为80℃、pH值在8.5-8.8之间,沉积2.5H条件下,能够生长出镜面光滑、致密的硫化铜薄膜.

关键词：硫化铜薄膜、发展现状、性能研究、化学浴沉积

分类号：TN304(半导体技术)

资助基金：安徽三联学院校级项目KJYB2018007

在线出版日期：2019-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：43-45