外延雾表面研究及设备改善
外延雾表面是一种常见的外延缺陷表现形式,在外延淀积后的硅片上,经常出现密集分布的雾缺陷,在器件工艺中,雾缺陷的存在会影响工艺器件的产品性能,因此硅片上的雾缺陷也成为了衡量外延层质量的一项重要参数.随着设备的更新和工艺的改进,不同的外延设备及工艺加工条件仍会有外延"雾"片的产生,对产品加工造成了困扰.文章中简要介绍了外延过程中产生发雾的原因,以理论和实践相结合的方式对外延雾缺陷的产生过程进行了试验验证,并提出了解决方式,通过增加外延炉氮气吹扫装置,隔离了外延设备关键部位与环境气体的接触,能有效降低设备自身的吸潮情况,减少外延过程中雾缺陷的形成.
外延、表面发雾、外延缺陷、设备吸潮
TN304.24(半导体技术)
2018-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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