基于四噻吩诱导生长酞菁氧钒形貌研究
四噻吩为聚噻吩类化合物,为平面结构,非常适合作为有机薄膜晶体管的诱导层.酞菁类化合物具有良好的光学特性,是重要的有机光学材料,尤其以酞菁氧钒为代表,酞菁氧钒具有较高的迁移率和开关比.真空蒸镀为现阶段比较常用用的薄膜蒸镀方法.本实验采用真空蒸镀的方法对四噻吩及酞菁氧钒实现镀膜.之后采用原子力显微镜对其形貌进行观测.
四噻吩、酞菁氧钒、真空蒸镀
TN3;O63
2017-02-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共2页
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四噻吩、酞菁氧钒、真空蒸镀
TN3;O63
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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