半导体制造中清洗技术的研究新进展阐述
最近这几年来,电子技术得到了空前的发展.随着市场经济中对于半导体器件与大量的集成电路的需求数量的不断增多,这也就要求了其性能性与可靠性的标准需要及时提升.如何高效的将半导体器件表面清洁干净并达到相应的使用标准,已经成为了现阶段半导体制造过程中需要及时解决的问题.在实际生产过程中我们可以清楚的发现,单单只是清洁了设备表面的污垢,并不能达到所要求的清洁标准.为此,作者在文中主要对半导体制造中清洗技术的研究新进展进行阐述.
半导体、清洗技术、进展
TM9;TH
2016-10-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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