三氟化氮高纯电子气体专利分析
高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性,蚀刻时在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面大量运用。文章通过对高纯三氟化氮进行分析,希望给相关工作人员带来一定的借鉴。
高纯三氟化氮、电子气体、专利
TN3;TQ1
2016-06-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共1页
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高纯三氟化氮、电子气体、专利
TN3;TQ1
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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