Al-N共掺ZnO：Co纳米薄膜的制备及其性能研究

摘要：

利用共溅射技术在石英玻璃衬底上沉积前驱体氮化物，在真空优于4×10-4Pa时、对前驱体氮化物分别在450℃、550℃、650℃温度下热氧化45min后获得Al-N共掺杂 ZnO：Co薄膜，利用XRD分析薄膜样品呈六方纤锌矿结构，氧化温度为650℃结晶质量最好；使用双光束紫外/可见分光光度计测量薄膜的吸收谱，计算得到在热氧化温度为450℃、550℃、650℃下制得的薄膜样品带隙分别为3.18、3.06、3.10eV；利用振动样品磁强计对样品的磁性进行测试，结果表明样品在室温下具有铁磁性，当热氧化温度为450℃时，磁学性能最好。

关键词：共溅射、热氧化、Al-N共掺、光学带隙、磁学特性

分类号：O6 ;TN3

在线出版日期：2016-05-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：7-8,9