磁控溅射技术的原理与发展

摘要：

磁控溅射技术因为其自身所具有的显著优点，已经被越来越广泛的运用于各个领域，其中以工业镀膜方面的应用最为广泛，相应的其生产技术也得到了很大的改进。文章着重讲述磁控技溅射技术的原理，特点以及磁控溅射技术的发展趋势。

关键词：镀膜技术、磁控溅射、平衡磁控溅射、非平衡磁控溅射

分类号：TN8;TN3

在线出版日期：2015-02-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：35-35