氨分子对加热引起的石墨层间分离的影响

摘要：

将含氨分子的氨水(NH3·H2O)、碳酸铵((NH4)2CO3)和碳酸氢铵(NH4HCO3)作为插层工质,通过搅拌和超声分别使其插入石墨层间,施加外界热激励使插层工质发生分解,分解产生的气体压力克服石墨层间范德华力.此方法利用氨分子的"楔形结构",实现了插层工质的物理插层,研究了 3种插层工质对加热引起的石墨层间分离的影响.结果表明,NH3· H2O作为插层工质时,分离效果最好.此外,傅里叶红外光谱结果表明没有形成C三N或C=N键,这表示含氨分子的插层工质不与石墨进行化学反应,以物理方式插入石墨层间,形成边缘插层,并且高温加热处理后,插层工质受热分解可去除干净.

关键词：石墨、氨分子、楔形结构、物理插层

所属期刊栏目：44

分类号：O613.71(无机化学)

资助基金：国家自然科学基金;山东省泰山学者项目;中央引导地方科技发展基金项目

在线出版日期：2023-10-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：66-72