10.3969/j.issn.1672-6987.2012.03.005
三氧化钼纳米带的简易合成与表征
在不添加表面活性剂,无模板的情况下,以钼粉和双氧水为原料,采用90℃水浴的方法制备三氧化钼纳米带.用X-射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM),透射电子显微镜(TEM)对产物进行表征.结果表明,反应产物均为三氧化钼纳米带,且纳米带尺寸均匀,宽度为80~100nm,厚度为20nm,长度为5~30μm.研究还发现,合成条件如反应时间,反应介质对产物的形貌有一定影响.
三氧化钼、纳米带、水浴法、低温
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TB383(工程材料学)
2012-10-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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