三氧化钼纳米带的简易合成与表征
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1672-6987.2012.03.005

三氧化钼纳米带的简易合成与表征

引用
在不添加表面活性剂,无模板的情况下,以钼粉和双氧水为原料,采用90℃水浴的方法制备三氧化钼纳米带.用X-射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM),透射电子显微镜(TEM)对产物进行表征.结果表明,反应产物均为三氧化钼纳米带,且纳米带尺寸均匀,宽度为80~100nm,厚度为20nm,长度为5~30μm.研究还发现,合成条件如反应时间,反应介质对产物的形貌有一定影响.

三氧化钼、纳米带、水浴法、低温

33

TB383(工程材料学)

2012-10-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

238-242

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

青岛科技大学学报(自然科学版)

1672-6987

37-1419/N

33

2012,33(3)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn