10.3969/j.issn.1672-6987.2011.03.002
氮掺杂氧化锌纳米材料的制备、光催化性能及第一性原理计算
利用活性屏离子渗氮技术在N2-H2混合气氛下,对ZnO纳米材料进行渗氮处理.通过XRD、TEM测试研究了氮掺杂ZnO纳米材料的物相和形貌;以甲基橙为降解对象,对其光催化性能进行测试;以密度泛函理论(DFT)为基础对氮掺杂前后ZnO纳米材料的电子结构进行了第一性原理计算.结果表明:氮掺杂使ZnO纳米粉体的光催化活性大大提高,其中汞灯照射40 min,甲基橙降解率达98.5%;氙灯照射6 h,甲基橙降解率达83.2%.理论计算表明:氮掺杂后费米能级进入价带,并引入了一窄的深受主能级.
ZnO、活性屏离子渗氮、光催化、密度泛函理论
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O643;O471(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家自然科学基金项目50572041,50972063;山东省自然科学基金项目Y2007F64;山东省科技攻关计划项目2006GG2203014;山东省教育厅科研发展计划项目J06A02;青岛市应用基础研究项目09-1-3-27-jch;青岛市关键技术重大攻关计划项目09-1-4-21-gx
2011-12-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
225-229,238