10.3969/j.issn.1672-6987.2010.02.006
植酸和钼酸钠自组装膜对铜表面的缓蚀作用
采用电化学阻抗谱(EIS)研究了植酸和钼酸钠单一配方及其复配自组装膜在质量分数3 5% NaCl溶液中对铜基底的缓蚀作用.结果表明:植酸与钼酸钠单一配方对铜基底均具有一定的缓蚀作用;因植酸分子的刚性结构,使自组装膜中含有缺陷,与钼酸钠复配自组装膜后,表面覆盖度明显增加,膜质量得到了改善,提高了对铜基底的缓蚀效率.
植酸、钼酸钠、自组装膜、电化学阻抗谱
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TQ426.7
教育部留学回国人员科研启动基金项目教外司留 [2005] 383
2010-06-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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