等离子体化学气相沉积制备氮化碳薄膜

摘要：

以H2、N2和CH4气体为前驱气体,通过等离子体化学气相沉积技术制备氮化碳薄膜.采用场发射扫描电子显微镜(FS-EM)及其附带的能量分散电子谱(EDS)、X射线衍射分析(XRD)、红外光谱(FTIR)和拉曼光谱(Raman)对其结构、表面形貌、元素含量和成键状况进行了分析,并讨论了气体流量比和放电功率对薄膜制备的影响.实验结果表明:沉积的薄膜中含有晶态的C3N4,碳氮原子比接近于理论值0 75,样品中碳氮原子多以CN、CN的形式存在;样品中氮元素的含量随着反应气体中N2含量的增加而增加;放电功率的增大使薄膜的沉积速率增大.

关键词：氮化碳、等离子体、化学气相沉积

所属期刊栏目：29

分类号：TG333(金属压力加工)

在线出版日期：2008-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：246-249,252