PAHFCVD金刚石膜表面形貌的研究

摘要：

采用等离子辅助热丝化学气相沉积(PAHFCVD)装置进行了金刚石薄膜、碳化钛/金刚石复合膜、掺硼金刚石薄膜的制备.制备条件分别为:V(CH)4:V(H2)=3:100,载气流量5～50 cm3·s-1,钛源钛酸异丙酯(Ti[OC3H 7]4),硼源硼酸三甲酯(BC3O4H9),基体温度820～860℃,基体偏压300V,沉积气压4 kPa.运用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和能量扩散电子谱(EDX)等分析手段对PAHFCVD金刚石膜、金刚石复合膜和掺硼金刚石膜进行了表征.结果发现,金刚石/碳化钛膜和掺硼金刚石膜主要晶面为(111)面.

关键词：金刚石、等离子体热丝化学气相沉积、复合膜

所属期刊栏目：26

分类号：TB33(工程材料学)

资助基金：中国科学院资助项目50273016

在线出版日期：2006-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：513-515,522