10.3969/j.issn.1672-6987.2004.05.013
放电电压对纯氮ASPN处理的影响
采用高电压、低气压的离子渗氮工艺,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对合金钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理.对渗氮层的硬度、深度和组织结构等进行了分析研究.结果表明,在纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理过程中放电电压起关键作用,只有当直流辉光放电电压高于800 V时,才能进行离子渗氮处理.通过分析用铜片采集的等离子放电空间的粒子发现,放电电压高于800 V时,沉积在铜片表面的粒子是能进行渗氮处理的氮化铁;而放电电压低于800 V时,沉积在铜片表面的粒子主要是氧化铁.
表面处理、活性屏离子渗氮(ASPN)、38CrMoAl钢
25
TG156.82(金属学与热处理)
2004-12-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
430-433