10.3969/j.issn.1672-6987.2004.01.010
等离子体辅助热丝化学气相沉积金刚石膜
采用等离子辅助热丝化学气相沉积(PAHFCVD)装置进行了金刚石薄膜的制备.并运用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)测试手段对沉积的金刚石薄膜进行了观察分析.在甲烷与氢气体积比为2:98、基体温度为800℃、等离子体偏压400V、沉积气压4kPa的沉积条件下可获得晶形完整的金刚石膜,其沉积速率可达1.1μm·h-1.
等离子体、热丝、化学气相沉积、金刚石薄膜
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TB333(工程材料学)
山东省自然科学基金Y200lF10
2004-05-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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