10.3969/j.issn.1672-6987.2002.01.017
等离子体微弧氧化技术及其应用
等离子体微弧氧化是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术.本研究详细介绍了微弧氧化技术的发展历史和研究现状,微弧氧化的基本原理、制备方法、工艺特点,以及膜层的结构和性能特点,并对这种陶瓷膜层的应用予以展望.
微弧氧化、陶瓷膜层、应用
23
TG174.442(金属学与热处理)
山东省教育厅资助项目
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
69-73
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10.3969/j.issn.1672-6987.2002.01.017
微弧氧化、陶瓷膜层、应用
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TG174.442(金属学与热处理)
山东省教育厅资助项目
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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