10.3969/j.issn.1000-3703.2001.08.007
离子氮化与离子镀TiN复合涂层的结合强度及强化机理
研究了3Cr2W8V和M2基体进行离子氮化和离子镀TiN复合涂层的结合强度和强化机理.利用XRD法分析了涂层的相结构,用划痕法测定了涂层的结合力,并用SEM观察分析了划痕形貌.结果表明,离子氮化与离子镀TiN复合涂层的结合力和硬度均高于TiN单层;合理的硬度梯度分布、膜基界面冶金结合、TiN沉积过程中离子氮化ε-Fe2-3N相的含量减少、离子氮化过渡层对顶层TiN涂层有力的支撑作用,是复合涂层强化的主要原因.
涂覆、离子镀、强化
TG174.444(金属学与热处理)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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