基于专利共类的关键核心技术识别模型构建及应用 ——以光刻技术为例

摘要：

[研究目的]基于专利数据系统、客观地识别关键核心技术,有助于丰富关键核心技术的识别方法,帮助中国更加科学的实施战略布局.[研究方法]在界定关键核心技术概念的基础上,提出一种基于专利共类的关键核心技术识别方法.首先依据技术的共现度大小,筛选热点技术作为研究对象,通过技术相似度、技术影响力和技术增长潜力率识别核心技术和潜力技术,在此基础上,借助社会网络分析法,以核心技术和潜力技术为节点,共现强度为边,计算结构洞并排序,选取排名前20位作为关键核心技术.[研究结论]以光刻技术为例进行案例研究,结果显示微生物或酶、光学元件、对表面涂布流体的一般工艺等技术是光刻技术领域的关键核心技术,有助于中国掌握技术发展趋势、合理配置资源、获取竞争优势.

关键词：核心技术、技术识别、潜力技术、热点技术、光刻技术、专利共类

所属期刊栏目：41

分类号：F204(国民经济管理)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;泰山学者工程专项

在线出版日期：2022-12-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：48-54