铸造多晶硅硅片的磷吸杂研究

摘要：

主要研究了铸造多晶硅晶锭不同位置的硅片在磷吸杂前后电学性能的变化.结果发现,经过870%磷吸杂40 min后不同位置处硅片的少数载流子寿命都有显著的提高,其中来自硅锭底部硅片的少数载流子寿命的提高程度明显低于来自顶部样品寿命的提高幅度.由于氧的分凝效应,在铸造多晶硅底部材料中含有较高浓度的间隙氧.结果表明,多晶硅磷吸杂的效果不仅与材料中过渡族金属的分布以及形态有关,而且还可能与硅中氧的浓度有关.

关键词：多晶硅、磷吸杂、少子寿命

分类号：TK512(特殊热能及其机械)

资助基金：国家科技攻关项目2004BA410A02;浙江省自然科学基金Y105468

在线出版日期：2007-07-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：34-36