10.3969/j.issn.1001-4616.2003.02.025
铕与聚二甲基硅氧烷高分子配合物的荧光光谱研究
@@ 稀土高分子材料的研究始于20世纪60年代初,1963年Wolff和Pressley研究了Eu(TTA)3(TTA--α噻吩甲酰三氟丙酮)在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中的荧光和激光性质[1,2],开创了稀土高分子研究的新领域.众所周知,含有发光稀土离子的聚合物兼具稀土离子的发光性能和聚合物易加工的特点,具有广阔的应用前景[3].
聚二甲基硅氧烷、分子配合物、荧光、光谱研究、稀土离子、噻吩甲酰三氟丙酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚合物、高分子材料、应用前景、激光性质、分子研究、发光性能、易加工
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O6(化学)
国家自然科学基金29970315;国家计委稀土专项基金GJX01100626;江苏省高技术研究发展计划项目BG2001045;江苏省教育厅高校自然科学基金01KJB150006
2003-09-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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