基于纳米压印技术制备200 nm周期金自支撑透射光栅

摘要：

采用纳米压印技术作为制备亚微米周期光栅网案的核心技术,并结合反应离子刻蚀,电子束蒸镀.微电镀.紫外光刻,湿法刻蚀成功制作了面积为5 mm×8 mm、周期为200 nm、占空比近1:1的大面积金自支撑透射光栅.首先利用紫外光同化纳米压印技术和反应离子刎蚀在高分子胶层上复制出石英模板上的纳米光栅结构,然后用微电镀技术制备出金光栅.为了获得具有较深槽深的光栅图形,采用了纳米压印双层胶工艺体系.此工艺利用r纳米压印技术分辨率高、效率高的优点,并且可以制备出剖面陡直、对比度高的高分辨率纳米光栅线条.最后用紫外光刻,微电镀和湿法腐蚀制作出支撑结构,获得金白支撑透射光栅.

关键词：纳米压印、透射光栅、微电镀、反应离子刻蚀

所属期刊栏目：45

分类号：O437.4(光学)

资助基金：国家高技术研究发展计划2007AA032334

在线出版日期：2009-09-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：517-522