负偏压对TiAlN涂层微观组织和性能的影响

摘要：

采用多弧离子镀技术在钢基体上沉积了TiAlN涂层,研究了负偏压对TiAlN涂层的表面形貌、物相变化和力学性能的影响.结果表明,随着负偏压的增大,涂层表面溶滴颗粒的大小和数量均减小,晶格常数随Al含量的减少而增加,从-50V的0.413nm到-200V的0.422nm.同时负偏压的增大,增强了离子束对涂层和基体的轰击效应,提高了涂层抵抗塑性变形的能力,使得涂层的硬度和界面结合力得到改善.

关键词：TiAlN涂层、负偏压、多弧离子镀、表面形貌、力学性能

所属期刊栏目：47

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：中国南方电网公司科技项目GD-KJXM-20190100

在线出版日期：2021-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：9-12