基于PLC的Low-E玻璃磁控溅射真空控制系统
针对Low-E玻璃在磁控溅射过程中镀膜腔体真空度小于5×10-6mbar的要求, 本文提出一种基于PLC控制泵组运行策略的抽真空方法, 采用S7-400PLC作为控制系统主体, Wincc平台作为过程监视系统, 真空规对腔体内的真空度信号进行采集并反馈到PLC内部, 控制泵组按一定顺序启动.实际应用表明该控制系统能够达到生产Low-E玻璃所需真空环境的标准, 并且运行稳定, 保障了磁控溅射区域真空度的稳定性.
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安徽省重大科技专项16030901003
2019-05-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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