紫外光辅助化学汽相沉积在InSb焦平面探测器中的应用

摘要：

本文系统描述了利用紫外光辅助化学汽相沉积（UVCVD）技术在InSb芯片背面减薄抛光后沉积SiO_2薄膜,作为减反膜以减少芯片表面对红外光的反射。通过测量SiO_2薄膜的光谱透过率,并利用红外焦平面测试系统测试SiO_2膜对器件性能的影响,表明UVCVD沉积的SiO_2膜具有良好的增透效果和均匀性,能有效提高InSb焦平面器件的性能。

关键词：紫外光辅助化学汽相沉积、SiO_2膜、减反

分类号：TN470.597(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2012-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：100-100,95