溅射偏压对CrN薄膜结构以及抗指纹性能的影响

摘要：

试验采用磁控溅射镀膜技术制备CrN薄膜,研究了不同溅射偏压下制成的薄膜的粗糙度、表面形貌、断面特征、人工汗液接触角的变化规律以及薄膜的抗指纹性能.结果表明:随着溅射偏压(0 V～120 V)的增加,其粗糙度增加、表面颗粒凸起数量增加、薄膜厚度逐渐减小.当溅射偏压大于60 V时,薄膜则因偏压的增大导致其表面能增加,薄膜的晶粒尺寸变大、生长取向从择优取向转变为多方向取向.当溅射偏压大于60 V时,薄膜与人工汗液的接触角明显降低,薄膜表面的残留指纹宽度显著增加,说明CrN薄膜在溅射偏压为60 V时抗指纹性能最优.

关键词：磁控溅射;溅射偏压;表面形貌;接触角;抗指纹性能

所属期刊栏目：33

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：宁波市2025科技创新项目2019B10102

在线出版日期：2022-01-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-6