不同硅烷修饰的MFI分子筛膜及其H2/CO2分离性能

摘要：

通过NH4+离子交换的方法获得了HMFI分子筛膜,采用在线化学气相沉积法(CVD)对其进行晶内孔道修饰,以提高其对H2的分离选择性.实验考察了四乙氧基硅烷(TEOS)、甲基二乙氧基硅烷(MDES)和三甲基乙氧基硅烷(TMES)3种不同尺寸修饰源对膜性能的影响.结果表明,尺寸较小的TMES更容易扩散进入分子筛膜的晶内孔道,从而获得了更优的H2/CO2分离性能,修饰后的膜在500℃下H2/CO2的分离因子可迭45.9,H2的渗透性为1.43×10-7 mol/(m2·s·Pa).同时,通过质谱(MS)分析了TMES在HMFI分子筛孔道中的裂解行为,探讨了硅烷修饰的的沉积机理.

关键词：MFI分子筛膜、硅烷、CVD、H2/CO2分离

所属期刊栏目：36

分类号：TQ028.8(一般性问题)

资助基金：国家自然科学基金21222602;江苏省杰出青年基金项目BK2012040;江苏省六大人才高峰项目;江苏省自然科学基金青年基金项目BK20130915;中国博士后科学基金面上项目2012M521065

在线出版日期：2016-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-6