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10.16078/j.tribology.2015.01.012

直流法制备类富勒烯碳氢薄膜的摩擦学性能研究

引用
采用直流等离子体化学气相沉积(dc-PECVD)技术,以甲烷为前驱体,在单晶硅表面制备了含氢类富勒烯(FL-C∶H)薄膜.简化了含氢类富勒烯(FL-C∶H)薄膜的脉冲偏压协助等离子体化学气相制备过程(mc-PECVD),通过高分辨率透射电镜和拉曼光谱确定了FL-C∶H薄膜的微观结构和薄膜内的富勒烯含量;通过纳米压痕和往复摩擦试验对比了两种方法制备的FL-C∶H与传统的DLC薄膜的硬度及摩擦性能.结果表明:与用脉冲偏压协助方案制备的含氢类富勒烯薄膜相比,直流方案制备的FL-C∶H薄膜具有相似的微观结构,更优异的机械特性及摩擦学性能,同时该薄膜表现出对载荷、频率和相对湿度的低敏感性.

直流、类富勒烯、脉冲偏压协助、低敏感性

35

TH117.3

The project was supported by the 973 Project of China 2013CB632304 and the National Nature Science Foundation of China 51275508,51205383.国家973项目2013CB632304和国家自然科学基金51275508、51205383资助.

2015-04-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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摩擦学学报

1004-0595

62-1095/O4

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2015,35(1)

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