低温沉积Ag-Cu薄膜的耐原子氧和摩擦学性能
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低温沉积Ag-Cu薄膜的耐原子氧和摩擦学性能

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采用多弧离子镀在低温(173 K)沉积了Ag-Cu薄膜,通过地面原子氧模拟试验机构考察了薄膜的耐原子氧性能,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和球-盘摩擦试验机对薄膜结构、耐原子氧性能和摩擦学性能进行了表征,并与室温(300 K)及低温(173 K)沉积Ag薄膜进行了比较研究.结果表明:低温沉积Ag-Cu薄膜由面心立方结构的AgCu合金相和少量Ag或Cu组成,Cu元素合金和低温沉积可细化Ag薄膜的晶畴尺寸、提高其致密性,细密的薄膜结构有利于抑制原子氧对薄膜的攻击,因此低温沉积的Ag-Cu薄膜表现出较好的耐原子氧性能;磨损试验结果表明低温沉积的Ag-Cu薄膜表现出较好的耐磨性,这主要归因于其细密的薄膜结构和较高的膜-基结合强度,此外由于其耐原子氧性能的改善,低温沉积Ag-Cu薄膜在原子氧辐照前后磨损率的增加明显低于低温和室温沉积Ag薄膜.

低温沉积、Ag-Cu薄膜、耐原子氧性能、摩擦学性能

33

TH117.1

国家自然科学基金项目50301015,51227804;The project was supported by the National Natural Science Foundation of China50301015,51227804

2013-07-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共8页

245-252

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1004-0595

62-1095/O4

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2013,33(3)

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