原子层沉积氧化铝薄膜摩擦学性能研究

摘要：

不同温度条件下,采用原子层沉积(ALD)技术在单晶硅基底表面制备了Al2O3薄膜.利用原子力显微镜观察了Al2O3薄膜的表面形貌和粗糙度,利用纳米压痕仪测定了薄膜的硬度,并通过UMT-2型往复摩擦磨损试验机(球-盘接触方式)考察了制备温度、载荷和对偶球对Al2O3薄膜的摩擦学性能的影响.结果表明:不同温度条件下制备得到的Al2O3薄膜的粗糙度不同；制备温度为100和200℃的Al2O3薄膜的摩擦性能较优；在所用载荷范围内,摩擦系数存在最低值；与不同对偶球对摩时,由于对偶球硬度不同,Al2O3薄膜呈现不同的摩擦磨损现象.

关键词：Al2O3薄膜、原子层沉积、制备温度、对偶球、摩擦磨损

所属期刊栏目：33

分类号：TH117.1

资助基金：国家自然科学基金NSFC 51102028;固体润滑国家重点实验室开放基金1006;江苏省高校优势学科建设项目资助

在线出版日期：2013-05-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：177-183