偏压及测试环境对新型MoS2-Ti复合膜摩擦学性能的影响

摘要：

采用新型高功率脉冲复合磁控溅射技术制备MoS2-Ti复合膜,并研究基体偏压和测试环境对复合膜摩擦学性能的影响.结果表明:制备的MoS2-Ti复合膜表面呈现颗粒状结构,Ti在薄膜表层与O反应形成氧化物有效抑制MoS2的氧化.随着基体负偏压从OV增大到-400 V,复合膜的S/Mo原子比逐渐减小.在-300 V偏压下,颗粒堆积最为紧密,薄膜硬度和弹性模量达到最大值,分别为9.7和137.1GPa,并具有最低的平均摩擦系数值(0.04)和磨损率[(10-7mm3/(N·m)].多种测试环境下的摩擦研究显示:在室温大气环境下复合膜的摩擦学性能与其结构的致密性紧密相关,而在N2以及不同湿度环境下薄膜表现出的优异摩擦学性能则归因于在摩擦过程中有效形成的转移膜贡献.

关键词：高功率脉冲复合磁控溅射、MoS2-Ti复合膜、基体偏压、摩擦学性能

所属期刊栏目：33

分类号：TH117.3

资助基金：国家重大基础研究计划2013CB632300;国家自然科学基金51005226;宁波重大攻关项目2011B1016

在线出版日期：2013-05-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：162-168