电沉积方式对纳米晶钴镀层的结构和摩擦学性能影响研究

摘要：

采用不同电沉积方式制备了不同结构和晶粒尺寸的纳米晶钴（Co）镀层.采用扫描电镜和X-射线衍射仪分别分析了镀层表面形貌、晶相结构与晶粒尺寸.采用MV-2T显微硬度计测试镀层的硬度.最后采用UMT-3M多功能摩擦磨损试验机对镀层的摩擦和磨损性能进行了评价,并用扫描电镜对其磨损表面进行了观察分析.结果表明：电沉积方式对制备的纳米Co镀层的晶相结构、晶粒尺寸、镀层形貌和摩擦磨损性能影响显著;采用双脉冲制备的纳米Co镀层具有最小的晶粒尺寸、最高的硬度及较好的耐磨性能;采用单双脉冲混合电镀制备的纳米Co镀层表面针孔孔洞直径最小,结构最致密,耐磨性能最好.这些研究结果说明可通过优化电沉积方式来提高镀层的结构致密性,改善其硬度和耐磨性能.

关键词：电沉积、纳米钴镀层、摩擦磨损

所属期刊栏目：32

分类号：TQ153.12

资助基金：中央高校基本科研业务费重点项目2011ZZ0055;广东省教育部产学研结合项目2011B090400202

在线出版日期：2012-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：47-52