添加TiN对MoS2基复合薄膜结构和性能的影响

摘要：

通过磁控反应溅射方法制备MoSx-TiN复合薄膜,研究添加少量TiN对MoS2基薄膜结构和性能的影响.薄膜的结构和性能通过X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)及UMT-2多功能微摩擦磨损试验机等进行了表征.结果表明:与纯MoS2薄膜相比,少量TiN的添加使得MoSx-TiN复合薄膜(002)晶面择优取向且结构致密.与纯MoS2和MoS2-Ti薄膜相比,MoSx-TiN复合薄膜在潮湿大气条件下具有更优异的摩擦磨损性能,更低的摩擦系数.

关键词：MoS2、TiN、磁控反应溅射、摩擦磨损性能

所属期刊栏目：31

分类号：TQ174;TH117.3

资助基金：国家自然科学基金50675131

在线出版日期：2011-05-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：40-44