磁控溅射Ti_(1-x)Al_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究

摘要：

采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的TiAIN薄膜.用SEM,AFM,EDS,XRD等检测手段对薄膜的表面状态,如粗糙度、化学成分及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分TiAlN薄膜的摩擦学性能进行了评价.试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在Ti_(0.82)Al_(0.18)N和Ti_(0.12)Al_(0.88)N的范围内发生变化;在700℃经1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,Ti_2AIN,TiN_(0.30)AlN,TiAlN等多种物相结构;表面粗糙度和形貌的试验结果表明了不同薄膜在不同位置的生长方式也不同;X值在0.57及0.65的薄膜具有高硬度、低粗糙度,并在摩擦过程中形成了摩擦转移膜,从而导致薄膜具有最佳的摩擦学性能.

关键词：TiAIN薄膜、反应磁控溅射、基体位置、摩擦、磨损

所属期刊栏目：29

分类号：TH117.3

在线出版日期：2010-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：518-525