镁合金表面磁控溅射CNx/SiC/Ti多层膜的摩擦磨损性能

摘要：

采用室温磁控溅射技术在镁合金(AZ91D)表面制备了 CNx/SiC/Ti(氮化碳/碳化硅/钛)多层膜(SiC、Tj为中间层),研究了CNNx薄膜的纳米压痕行为和摩擦磨损性能.结果表明:CNNx薄膜具有低的纳米硬度(6.67 GPa)、低的弹性模最(54.68 GPa)和高的硬度与弹性模量比值(0.122);在以氮化硅球为对摩副的室温干摩擦条件下摩擦系数约为0.162,磨损率在10-6mm3/(m·N)级,薄膜经长时间(3.5 h)磨损后未出现裂纹和剥落.分析表明,摩擦化学和硬度与弹性模量比值对摩擦系数和磨损率有重要影响.

关键词：镁基材、薄膜、纳米压痕、摩擦磨损、磁榨溅射

所属期刊栏目：29

分类号：TH174.4

资助基金：江苏大学优秀学术青年骨干培养对象基金;江苏省摩擦学重点实验室基金kjsmcx06005

在线出版日期：2009-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：432-436