基体偏压对磁控溅射类石墨镀层摩擦磨损性能的影响

摘要：

利用4靶非平衡磁控溅射离子镀技术在Si(100)和W6Mo5Cr4V2高速钢基体上沉积类石墨镀层,研究了基体偏压与类石墨镀层的显微硬度、摩擦系数、比磨损率的关系,采用扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)分析了基体偏压对镀层的表面、断面形貌及微观结构的影响.结果表明:随着基体偏压值的增大,镀层的沉积速率下降,显微硬度和结合强度先增后降,摩擦系数和比磨损率则先降后升.不同偏压对应了不同的显微结构,当基体偏压为-65 V左右,镀层具有良好的力学性能和减摩耐磨性能,对应镀层表面光滑、结构致密,断面呈细纤维结构,镀层由C、Cr和CrCx纳米晶粒组成非晶结构.

关键词：非平衡磁控溅射、GLC-Cr复合镀层、基体偏压、摩擦磨损性能、显微结构

所属期刊栏目：28

分类号：TH117.3;O484.4

资助基金：国家"863"科技攻关项目资助2005AA33H010

在线出版日期：2009-03-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：491-496