纳米SiO2/CeO2复合磨粒的制备及其抛光特性研究

摘要：

以尿素[CO(NH2)2]、(NH4)2Ce(NO3)6和SiO2为原料,采用均相沉淀法制备1种新型纳米SiO2/CeO2复合磨粒,通过X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、飞行时间二次离子质谱仪和扫描电子显微镜等分析手段对其结构进行表征,并将SiO2/CeO2复合磨粒配置成抛光液在数字光盘玻璃基片上进行化学机械抛光试验.结果表明:所制备的SiO2/CeO2复合磨粒的平均晶粒度为19.64 nm,粒度分布均匀;经过1 h抛光后,玻璃基片的平均表面粗糙度(Ra)由1.644 nm降至0.971 nm;抛光后玻璃基片表面变得光滑、平坦,表面微观起伏较小.

关键词：化学机械抛光(CMP)、玻璃基片、复合磨粒

所属期刊栏目：28

分类号：TH117.3

资助基金：国家自然科学基金50575131;国家重点基础研究发展计划973计划2003CB716201;上海市自然科学基金07ZR14039;上海市教委第五期重点学科资助项目J50102

在线出版日期：2008-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：103-107