双炔酸聚合LB膜结构及其摩擦磨损行为研究

摘要：

采用垂直提拉法将单层双炔酸膜转移到云母基片上,同时将13层双炔酸膜转移到经过亲水处理的单晶硅片和石英片上,使双炔酸在紫外光照射下发生拓扑聚合制备双炔酸聚合LB膜,并对双炔酸和经紫外光照射后聚合双炔酸LB膜的结构及摩擦磨损特性进行研究.结果表明:双炔酸在可见区无吸收峰,但经紫外光照射后因双炔酸聚合后形成的共轭大π键在可见区出现了吸收峰;双炔酸LB膜均匀平整,厚度约为3.5 nm,聚合后其结构发生变化,厚度降至约1.5 nm;而聚合后双炔酸LB膜的减摩性能基本保持不变,聚合前后双炔酸LB膜的摩擦系数不随载荷而变化,符合阿芒顿定律,其抗磨特性得到明显提高;磨痕结果充分表明聚合双炔酸耐磨性能较好.

关键词：Langmuir-Blodgett(LB)膜、聚合、摩擦磨损特性

所属期刊栏目：27

分类号：TH117.3

资助基金：国家自然科学基金20371015;20571024;河南省高校杰出科研创新人才工程项目2006KYCX001

在线出版日期：2007-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：193-198