纳米CeO2颗粒的制备及其化学机械抛光性能研究

摘要：

以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8 nm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度最低(0.740 nm),采用粒度小于或大于8 nm的CeO2磨料抛光后其表面粗糙度值均较高.通过简化的固-固接触模型分析,认为当粒度过小时,磨料难以穿透软质层,表现为化学抛光为主,表面凹坑较多,表面粗糙度较高;当粒度大于一定值时,随着磨料粒度增加,嵌入基体部分的深度加大,使得粗糙度出现上升趋势.提出当磨料嵌入晶片表面的最大深度等于或接近于软质层厚度时,在理论上应具有最佳的抛光效果.

关键词：纳米CeO2、GaAs、化学机械抛光、磨料粒径

所属期刊栏目：27

分类号：TG356.28;TH117.3(金属压力加工)

资助基金：江苏省自然科学基金BK2002010;江苏省高技术研究发展计划项目BG2004022

在线出版日期：2007-03-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5