热处理对GeSb2Te4薄膜微观结构及其摩擦性能的影响

摘要：

利用射频溅射法制备了GeSb2Te4薄膜并对其进行热处理,分析热处理前后样品的结晶情况,用纳米硬度计测定硬度,利用静电力显微镜表征样品的表面电势,采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,利用侧向力显微镜对比考察了在考虑相对湿度的情况下,热处理前后GeSb2Te4薄膜的粘附力和摩擦性能.结果表明:经过退火的沉积态GeSb2Te4薄膜发生从非晶相到fcc亚稳相再到hex稳定相转变;粘附力与表面粗糙度之间没有明显的对应关系,但与样品表面自由能和表面电势有一定关系;在低载荷下GeSb2Te4薄膜的摩擦力很大程度上受粘附力支配,而在高载荷下的摩擦力受犁沟影响显著;经过340 ℃退火GeSb2Te4薄膜由于具有层状结构,呈现出一定的润滑作用.

关键词：GeSb2Te4薄膜、热处理、表面电势、粘附力、摩擦性能

所属期刊栏目：26

分类号：TG174.44;TH117.3(金属学与热处理)

资助基金：教育部全国优秀博士学位论文作者专项基金200330;江苏大学校科研和教改项目1291400001;江苏省建设厅科研项目03KJD460066

在线出版日期：2006-05-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：108-112