10.3321/j.issn:1004-0595.2005.02.009
四面体无定型无氢非晶碳膜的制备及其摩擦学性能研究
采用磁过滤阴极真空弧系统分别在硅片[Si(100)]、W18Cr4V高速钢和Cr18Ni9不锈钢基体上沉积了一系列sp3键含量较高的四面体无定型无氢非晶碳膜(ta-C),研究了所合成薄膜的结构、硬度、附着强度和摩擦磨损性能,考察了基体和薄膜厚度对薄膜摩擦系数的影响,简要分析了相应ta-C膜的失效机理.结果表明,在高速钢基体上沉积的ta-C膜的显微硬度为76 GPa,结合力Lc值达42 N,具有优良的摩擦学性能,其摩擦系数为0.12,且摩擦系数可以在16 000 r范围内保持稳定.
磁过滤真空弧、沉积、无氢非晶碳膜(ta-C)、摩擦学性能
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TH117.3
2005-04-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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