磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积Ti-Si-N薄膜摩擦磨损性能对比研究

摘要：

分别利用磁控溅射和脉冲直流化学气相沉积(PCVD)技术制备了Ti-Si-N薄膜,测定了2种Ti-Si-N薄膜的显微硬度,并采用球-盘式高温摩擦磨损试验机对比考察了其高温摩擦磨损性能.结果表明,当薄膜中Si含量(原子分数)约为10%时,2种薄膜的显微硬度达到最大值;2种Ti-Si-N薄膜的耐磨性能同其硬度之间不存在对应关系,其中采用PCVD方法制备的Ti-Si-N薄膜的高温抗磨性能较优;2种薄膜在高温下的摩擦系数均有所降低,这归因于高温下氧化膜的润滑作用.

关键词：磁控溅射、脉冲直流化学气相沉积(PCVD)、Ti-Si-N薄膜、摩擦磨损性能

所属期刊栏目：24

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金50271053,50371067;国家自然科学基金50420130033

在线出版日期：2004-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：415-419