纳米磨料对硅晶片的超精密抛光研究

摘要：

采用均相沉淀法制备了纳米CeO2和纳米Al2O3超细粉体,将所制备的超细粉体配制成抛光液并用于硅晶片化学机械抛光,考察了纳米磨料对硅晶片抛光效果及抛光机理的影响.结果表明,纳米CeO2磨料的抛光效果优于纳米Al2O3磨料,采用纳米CeO2磨料抛光硅晶片时可以得到在1 μm×1 μm范围内微观表面粗糙度Ra为0.089 nm的超光滑表面,且表面微观起伏较小.

关键词：纳米磨料、单晶硅片、抛光、表面形貌

所属期刊栏目：24

分类号：TG356.28(金属压力加工)

资助基金：江苏省自然科学基金BK2002010

在线出版日期：2004-09-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：332-335