十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究

摘要：

通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性.结果表明,在紫外光照射下,十八烯在硅表面通过键合生成有序反应膜,从而降低硅表面的粘着能和减小摩擦.

关键词：十八烯、反应膜、氢终止硅表面、AFM

所属期刊栏目：22

分类号：O623.121;TH117.3(有机化学)

资助基金：国家自然科学基金50023001

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：399-401