Ar+刻蚀对MoS2润滑膜分子结构的影响

摘要：

采用Ar+离子溅射源进行XPS和AES 剖面分析，结果发现,Ar+对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化 学计量比的MoSx，Mo原子被还原，Mo3d结合能值向低端位移约1.7 eV.应该注 意的是,采用Ar+溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态，S/Mo 原子比同实验值之间亦存在差异,故应采用有关软件对实验结果进行修正

关键词：氩离子溅射、择优刻蚀、XPS、AES、剖面分析

所属期刊栏目：21

分类号：O614.612;O657.62(无机化学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：47-50