10.3969/j.issn.1007-5461.2022.05.002
YAG晶体的位错研究进展
大尺寸YAG晶体的生长不可避免地会出现各种缺陷,位错是晶体中主要的缺陷之一.位错会产生应力双折射,降低晶体的光学均匀性,增大损耗、缩短使用寿命等,因此生长出无位错或低位错YAG晶体对发展高效率固体激光器具有重要意义.本文综述了近四十年来国内外对于YAG晶体的位错研究状况,总结了化学腐蚀法、缀饰法、同步辐射法、应力双折射法、X射线透射形貌术、光散射层貌术等在位错方面的研究以及TEM、SEM等方法在YAG位错研究上的应用,并对晶体生长工艺对晶体内部位错密度与分布的影响进行了介绍,为大尺寸、高品质YAG激光晶体的制备和位错研究提供了参考.
激光技术、YAG晶体、位错、晶体缺陷、晶体生长
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O431.2(光学)
2022-11-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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