532 nm连续激光对砷化镓材料损伤的研究

摘要：

利用532 nm连续激光对掺Si的n型砷化镓材料进行作用,材料的晶轴方向为〈100〉偏〈111A〉方向15°.实验观察到,连续激光与材料相互作用过程中,材料作用表面的反射光在观察屏上形成环状结构,认为是由夫琅和费衍射产生的,并首次提出将衍射作为探测材料损伤的方法.实验测得砷化镓的阈值损伤功率密度为2.56×105W/cm2.利用温度场的热传导方程计算获得材料的损伤阈值时间与入射光功率密度的关系曲线,并与实验曲线进行了比较.

关键词：激光技术、激光损伤阈值、夫琅和费衍射、砷化镓材料、532 nm连续激光、热传导

所属期刊栏目：24

分类号：TN249;O434.19(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金69978009;60677027;高等学校博士学科点专项科研项目20060422025

在线出版日期：2007-11-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：625-629