10.3969/j.issn.1007-5461.2005.03.025
Si掺杂的AlGaInP/GaInP多量子阱光学特性
低压MOCVD方法生长了掺Si与不掺Si的AlGaInP/GaInP多量子阱结构,运用X射线双晶衍射与光荧光技术研究了掺Si对量子阱性能的影响.测试结果表明掺Si使量子阱的生长速度增加,掺Si量子阱的光荧光强度比未掺Si量子阱的光荧光强度改善了一个数量级.
光电子学、X射线双晶衍射、金属有机化学气相沉积、量子阱、光荧光
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O472.3(半导体物理学)
广东省广州市科技攻关项目1999-2-035-1
2005-07-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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